基(ji)(ji)于(yu)(yu)白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜單(dan)峰值波(bo)長(chang)移(yi)(yi)(yi)動(dong)(dong)的(de)鍺膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)測量方案(an)(an)研究：在對(dui)比研究目(mu)前常(chang)用(yong)的(de)白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)測量方案(an)(an)的(de)基(ji)(ji)礎上，我們(men)發現當兩干涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)程差(cha)(cha)(cha)非常(chang)小導致其干涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜只有一個干涉(she)(she)(she)峰時(shi)，常(chang)用(yong)的(de)基(ji)(ji)于(yu)(yu)兩相鄰干涉(she)(she)(she)峰間(jian)距(ju)的(de)解(jie)(jie)調方案(an)(an)不再適(shi)用(yong)。為(wei)此，我們(men)提(ti)出了適(shi)用(yong)于(yu)(yu)極小光(guang)(guang)(guang)(guang)程差(cha)(cha)(cha)的(de)基(ji)(ji)于(yu)(yu)干涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜單(dan)峰值波(bo)長(chang)移(yi)(yi)(yi)動(dong)(dong)的(de)測量方案(an)(an)。干涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜的(de)峰值波(bo)長(chang)會隨著(zhu)光(guang)(guang)(guang)(guang)程差(cha)(cha)(cha)的(de)增大(da)出現周期性的(de)紅(hong)移(yi)(yi)(yi)和藍移(yi)(yi)(yi)，當光(guang)(guang)(guang)(guang)程差(cha)(cha)(cha)在較小范圍內變(bian)化時(shi)，峰值波(bo)長(chang)的(de)移(yi)(yi)(yi)動(dong)(dong)與(yu)光(guang)(guang)(guang)(guang)程差(cha)(cha)(cha)成(cheng)正比。根(gen)據這一原理，搭建(jian)了光(guang)(guang)(guang)(guang)纖(xian)白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)溫度(du)(du)(du)傳感系統對(dui)這一測量解(jie)(jie)調方案(an)(an)進行(xing)驗證，得到了光(guang)(guang)(guang)(guang)纖(xian)端面半(ban)導體鍺薄膜(mo)(mo)的(de)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)。實驗結(jie)果(guo)顯(xian)示鍺膜(mo)(mo)的(de)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)為(wei)，與(yu)臺階(jie)儀(yi)測量結(jie)果(guo)存在，這是因(yin)為(wei)薄膜(mo)(mo)表面本身并不光(guang)(guang)(guang)(guang)滑，臺階(jie)儀(yi)的(de)測量結(jie)果(guo)只能作為(wei)參考值。鍺膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)測量誤差(cha)(cha)(cha)主要來自光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)的(de)波(bo)長(chang)漂移(yi)(yi)(yi)和溫度(du)(du)(du)控制(zhi)誤差(cha)(cha)(cha)。白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)測量技(ji)術(shu)可以實現對(dui)薄膜(mo)(mo)的(de)在線檢測和控制(zhi)。高精(jing)度(du)(du)(du)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)儀(yi)銷(xiao)售(shou)價格

開展白光干涉(she)理(li)(li)論分析，在此基礎詳細介(jie)紹了(le)(le)白光垂直掃(sao)描(miao)(miao)干涉(she)技術(shu)和(he)白光反(fan)射(she)(she)(she)光譜(pu)技術(shu)的(de)(de)(de)基本原理(li)(li)，完成(cheng)了(le)(le)應用(yong)于靶(ba)(ba)(ba)(ba)丸殼層(ceng)折射(she)(she)(she)率(lv)和(he)厚度分布測量(liang)(liang)實(shi)(shi)(shi)驗裝置(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)設計及搭建。該實(shi)(shi)(shi)驗裝置(zhi)(zhi)主要(yao)由白光反(fan)射(she)(she)(she)光譜(pu)探測模(mo)(mo)塊、靶(ba)(ba)(ba)(ba)丸吸附(fu)轉位模(mo)(mo)塊、三維(wei)運動模(mo)(mo)塊、氣浮隔震平(ping)臺等(deng)幾部分組成(cheng)，可(ke)實(shi)(shi)(shi)現靶(ba)(ba)(ba)(ba)丸的(de)(de)(de)負壓(ya)吸附(fu)、靶(ba)(ba)(ba)(ba)丸位置(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)精密調整以及靶(ba)(ba)(ba)(ba)丸360°范(fan)圍(wei)的(de)(de)(de)旋轉及特定角度下靶(ba)(ba)(ba)(ba)丸殼層(ceng)白光反(fan)射(she)(she)(she)光譜(pu)的(de)(de)(de)測量(liang)(liang)。基于白光垂直掃(sao)描(miao)(miao)干涉(she)和(he)白光反(fan)射(she)(she)(she)光譜(pu)的(de)(de)(de)基本原理(li)(li),建立(li)了(le)(le)二者聯用(yong)的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)(ba)(ba)丸殼層(ceng)折射(she)(she)(she)率(lv)測量(liang)(liang)方(fang)法(fa)，該方(fang)法(fa)利(li)用(yong)白光反(fan)射(she)(she)(she)光譜(pu)測量(liang)(liang)靶(ba)(ba)(ba)(ba)丸殼層(ceng)光學厚度，利(li)用(yong)白光垂直掃(sao)描(miao)(miao)干涉(she)技術(shu)測量(liang)(liang)光線通(tong)過靶(ba)(ba)(ba)(ba)丸殼層(ceng)后的(de)(de)(de)光程(cheng)增量(liang)(liang)，二者聯立(li)即可(ke)求得靶(ba)(ba)(ba)(ba)丸折射(she)(she)(she)率(lv)和(he)厚度數據。湖南防(fang)水膜厚儀(yi)白光干涉(she)膜厚測量(liang)(liang)技術(shu)可(ke)以實(shi)(shi)(shi)現對薄膜的(de)(de)(de)快速(su)測量(liang)(liang)和(he)分析。

確定(ding)靶丸(wan)折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)及厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)算(suan)法(fa)(fa)(fa)，由(you)于(yu)干涉光(guang)(guang)(guang)譜(pu)信(xin)號(hao)與膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)參(can)量直接相關(guan)，這里主要(yao)考(kao)慮光(guang)(guang)(guang)譜(pu)分(fen)析(xi)(xi)(xi)的(de)(de)(de)(de)方法(fa)(fa)(fa)根(gen)據(ju)(ju)測量膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)反射(she)(she)或(huo)(huo)透射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)進(jin)行(xing)分(fen)析(xi)(xi)(xi)計(ji)(ji)算(suan)，可(ke)(ke)獲(huo)得(de)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)、折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)等參(can)數(shu)。根(gen)據(ju)(ju)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)信(xin)號(hao)分(fen)析(xi)(xi)(xi)計(ji)(ji)算(suan)膜(mo)(mo)(mo)折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)及厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)方法(fa)(fa)(fa)主要(yao)有極(ji)(ji)(ji)值法(fa)(fa)(fa)和(he)包(bao)絡法(fa)(fa)(fa)、全(quan)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)擬(ni)(ni)合法(fa)(fa)(fa)。極(ji)(ji)(ji)值法(fa)(fa)(fa)測量膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)主要(yao)是根(gen)據(ju)(ju)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)反射(she)(she)或(huo)(huo)透射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)曲線上(shang)的(de)(de)(de)(de)波(bo)峰的(de)(de)(de)(de)位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)來計(ji)(ji)算(suan)，對(dui)于(yu)弱色散(san)(san)(san)介(jie)質，折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)為恒定(ding)值，根(gen)據(ju)(ju)兩個或(huo)(huo)兩個以(yi)上(shang)的(de)(de)(de)(de)極(ji)(ji)(ji)大值點的(de)(de)(de)(de)位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)，求(qiu)得(de)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)，若已知膜(mo)(mo)(mo)折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)即(ji)可(ke)(ke)求(qiu)解膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)；對(dui)于(yu)強色散(san)(san)(san)介(jie)質，首先利用極(ji)(ji)(ji)值點求(qiu)出膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)初始值。薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)是一恒定(ding)不變值，可(ke)(ke)根(gen)據(ju)(ju)極(ji)(ji)(ji)大值點位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)關(guan)系式獲(huo)得(de)入(ru)射(she)(she)波(bo)長和(he)折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)的(de)(de)(de)(de)對(dui)應(ying)關(guan)系，再依據(ju)(ju)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)材質的(de)(de)(de)(de)色散(san)(san)(san)特性，引入(ru)合適的(de)(de)(de)(de)色散(san)(san)(san)模(mo)(mo)(mo)型，常用的(de)(de)(de)(de)色散(san)(san)(san)模(mo)(mo)(mo)型有cauchy模(mo)(mo)(mo)型、Selimeier模(mo)(mo)(mo)型、Lorenz模(mo)(mo)(mo)型等，利用折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)與入(ru)射(she)(she)波(bo)長的(de)(de)(de)(de)關(guan)系式，通過二(er)乘法(fa)(fa)(fa)擬(ni)(ni)合得(de)到(dao)色散(san)(san)(san)模(mo)(mo)(mo)型的(de)(de)(de)(de)系數(shu)，即(ji)可(ke)(ke)解得(de)任意入(ru)射(she)(she)波(bo)長下的(de)(de)(de)(de)折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)。

目前，應用的顯(xian)微(wei)干(gan)涉方式主要有(you)Mirau顯(xian)微(wei)干(gan)涉和(he)Michelson顯(xian)微(wei)干(gan)涉兩張方式。如圖2-5(a)所(suo)示Mirau型(xing)顯(xian)微(wei)干(gan)涉結(jie)構，在(zai)該結(jie)構中物鏡和(he)被測樣(yang)(yang)品之(zhi)間有(you)兩塊平板(ban)(ban)，一個是涂(tu)覆(fu)有(you)高反射膜的平板(ban)(ban)作為(wei)參考(kao)(kao)鏡，另一塊涂(tu)覆(fu)半透半反射膜的平板(ban)(ban)作為(wei)分光(guang)棱鏡，由于參考(kao)(kao)鏡位于物鏡和(he)被測樣(yang)(yang)品之(zhi)間，從而使物鏡外殼更加緊(jin)湊，工(gong)作距離相(xiang)對而言短(duan)一些，其倍率一般為(wei)10-50倍，Mirau顯(xian)微(wei)干(gan)涉物鏡參考(kao)(kao)端使用與測量端相(xiang)同(tong)顯(xian)微(wei)物鏡，因此沒有(you)額(e)外的光(guang)程差。白光(guang)干(gan)涉膜厚測量技術可以應用于半導體制(zhi)造中的薄膜厚度控制(zhi)。

干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)法(fa)(fa)作為(wei)面掃描方式可(ke)(ke)(ke)以一次性(xing)(xing)對(dui)(dui)(dui)薄膜局域內的(de)(de)(de)(de)厚度(du)(du)進行(xing)解算，適用于(yu)(yu)對(dui)(dui)(dui)面型整(zheng)體形貌(mao)特征要求較(jiao)高的(de)(de)(de)(de)測量對(dui)(dui)(dui)象。干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)法(fa)(fa)算法(fa)(fa)在于(yu)(yu)相位信息的(de)(de)(de)(de)提取(qu)，借助多種復合(he)算法(fa)(fa)通常(chang)可(ke)(ke)(ke)以達到納米級的(de)(de)(de)(de)測量準確度(du)(du)。然而主動干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)法(fa)(fa)對(dui)(dui)(dui)條紋穩定(ding)性(xing)(xing)不(bu)(bu)(bu)佳，光學元件表面的(de)(de)(de)(de)不(bu)(bu)(bu)清(qing)潔(jie)、光照度(du)(du)不(bu)(bu)(bu)均勻、光源不(bu)(bu)(bu)穩定(ding)、外界氣流(liu)震動干(gan)(gan)(gan)擾等(deng)因素均可(ke)(ke)(ke)能影響(xiang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)圖的(de)(de)(de)(de)完整(zheng)性(xing)(xing)[39]，使干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)圖樣中包含(han)噪聲和部分(fen)區域的(de)(de)(de)(de)陰影，給后期處理帶來(lai)困(kun)難。除此之外，干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)法(fa)(fa)系(xi)(xi)統精度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)來(lai)源——精密移動及定(ding)位部件也增加(jia)了系(xi)(xi)統的(de)(de)(de)(de)成本，高精度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)儀往(wang)往(wang)較(jiao)為(wei)昂貴。白光干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)膜厚測量技術(shu)可(ke)(ke)(ke)以對(dui)(dui)(dui)薄膜的(de)(de)(de)(de)厚度(du)(du)、反射率(lv)、折(zhe)射率(lv)等(deng)光學參數(shu)進行(xing)測量。有哪些膜厚儀大概價(jia)格多少

白光(guang)干涉膜厚測量技術可以通過對(dui)干涉曲線(xian)的(de)分析實現(xian)對(dui)薄膜的(de)厚度測量。高精(jing)度膜厚儀銷售(shou)價格

干(gan)(gan)涉(she)(she)法與(yu)(yu)分(fen)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)度(du)法都是(shi)利用(yong)相(xiang)(xiang)干(gan)(gan)光(guang)(guang)(guang)形成(cheng)等厚(hou)干(gan)(gan)涉(she)(she)條紋(wen)的(de)(de)原理(li)來確定(ding)薄(bo)(bo)膜厚(hou)度(du)和(he)(he)折射率，然而與(yu)(yu)薄(bo)(bo)膜自(zi)發產(chan)生的(de)(de)等傾(qing)干(gan)(gan)涉(she)(she)不同，干(gan)(gan)涉(she)(she)法是(shi)通過(guo)設置(zhi)參考光(guang)(guang)(guang)路，形成(cheng)與(yu)(yu)測(ce)量(liang)光(guang)(guang)(guang)路間(jian)(jian)(jian)的(de)(de)干(gan)(gan)涉(she)(she)條紋(wen)，因此其相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)信(xin)(xin)息(xi)包含兩個部分(fen)，分(fen)別是(shi)由參考平(ping)面和(he)(he)測(ce)量(liang)平(ping)面間(jian)(jian)(jian)掃描高度(du)引(yin)起的(de)(de)附加相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)和(he)(he)由透明薄(bo)(bo)膜內部多次(ci)反(fan)射引(yin)起的(de)(de)膜厚(hou)相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)。干(gan)(gan)涉(she)(she)法測(ce)量(liang)光(guang)(guang)(guang)路使用(yong)面陣CCD接收(shou)參考平(ping)面和(he)(he)測(ce)量(liang)平(ping)面間(jian)(jian)(jian)相(xiang)(xiang)干(gan)(gan)波面的(de)(de)干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)強(qiang)分(fen)布，不同于以上三(san)種點測(ce)量(liang)方式，可(ke)一次(ci)性生成(cheng)薄(bo)(bo)膜待測(ce)區域的(de)(de)表(biao)面形貌信(xin)(xin)息(xi)，但同時由于存在大量(liang)軸向掃描和(he)(he)數據解(jie)算，完成(cheng)單次(ci)測(ce)量(liang)的(de)(de)時間(jian)(jian)(jian)相(xiang)(xiang)對較(jiao)長。高精度(du)膜厚(hou)儀銷(xiao)售價(jia)格(ge)

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